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简要描述：Nikalyte NL-UHV磁控溅射仪能够在超真空中生成和沉积纳米颗粒，以在样品上创建功能化表面。 可以通过精确控制纳米颗粒的尺寸、组成和结构来定制纳米颗粒涂层的特性，从而实现定制化特性。
产品型号：厂商性质：代理商更新时间：2025-01-26访 问 量：334产品分类
Product Category详细介绍
| 品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 国产 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 能源,电子/电池,电气 |
NL-UHV能够在超真空中生成和沉积纳米颗粒，以在样品上创建功能化表面。 可以通过精确控制纳米颗粒的尺寸、组成和结构来定制纳米颗粒涂层的特性，从而实现定制化特性。
NL-UHV仪器允许将超纯纳米颗粒直接沉积在各种基底和材料上。可以调整膜的密度，并且涂层能够很好地附着在样品表面。 NL-UHV有多种配置可供选择，包括单个1英寸和2英寸源，以及三重1英寸源NL-DX3，后者允许单独或作为合金沉积多达三种材料。 NL-QMS质量过滤器提供了对纳米颗粒沉积的高级控制，允许实时按质量或直径扫描或过滤纳米颗粒。 NL-QMS通过用户友好的WindowsTM软件操作，为沉积过程提供了直观的控制。
介绍超真空-合金纳米颗粒沉积 Nikalyte NL-UHV，合金纳米颗粒沉积仪器系列，能够在超真空中将纳米颗粒生成并沉积到您的样品上，以创建功能化表面。通过精确控制纳米颗粒的尺寸、组成和结构，可以定制纳米颗粒涂层的特性。
与化学技术不同，NL-UHV系列仪器允许将超纯纳米颗粒直接沉积在各种基底和材料上。可以调整膜的密度，且膜本身可以高度附着在样品表面。
Nikalyte NL-UHV磁控溅射仪主要特点：
可烘烤至 250°C（无需移除磁铁）
高达 40% 的出色靶材利用率
用于磁性材料的标准和高强度磁体
平衡或不平衡磁体配置的选项
简单的卡口夹，便于直接安装目标
包括手动或气动控制快门之间的选择
可用的溅射靶尺寸：1 英寸、2 英寸和 3 英寸
用户友好的设计，带有易于更换的磁铁
可定制的真空长度
兼容 DC、RF、脉冲直流（单极或双极）和 HiPIMS 电源
Nikalyte NL-UHV磁控溅射仪规格
溅射源 | 1.0″ | 2.0″ | 3.0″ | |
安装法兰 （CF （O.D.） | 4.5 英寸 | 6.0 英寸 | 6.0 英寸 | |
114 毫米 | 152 毫米 | 152 毫米 | ||
NW63CF | NW100CF | NW100CF | ||
兼容 UHV | 是的，可在高达 250°C 的温度下烘烤（无需移除磁铁） | |||
真空长度 | 200 毫米或 300 毫米 – 可根据要求提供特殊长度 | |||
源头的真空直径 | 45 毫米 | 72 毫米 | 93 毫米 | |
目标大小 | 1.0 英寸（25 毫米） | 2.0 英寸（50 毫米） | 3.0 英寸（75 毫米） | |
目标物厚度（使用标准磁铁的非磁性目标物） | 最大 3 毫米 | 最大 3 毫米 | 最大 3 毫米 | |
目标物厚度（带有强磁铁的非磁性目标物） | 不适用 | 最大 7 毫米 | 最大 7 毫米 | |
目标物厚度（带有强磁铁的磁性目标物） | 不可用 – | 最大 1 毫米 | 最大 2 毫米 | |
0.4mm，带标准 | ||||
磁性元件 | ||||
磁铁 | 对于磁性或非磁性材料，平衡或不平衡，用户可以轻松 | |||
更换 | ||||
电源 | 直流、射频、脉冲直流（单极或双极）、HiPIMS | |||
快门 | 一体式手动或可选气动操作 | |||
冷却 | 最小水流量为 1 I/min | |||
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